光催化氧化設備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射碳氫有機物分子鍵，裂解具有刺激性氣味物質，在半導體催化劑的作用下，使呈游離狀態的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解有機氣體分子鍵，進行催化氧化反應，達到處理有機異味的目的。光催化氧化設備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射碳氫有機物分子鍵，裂解具有刺激性氣味物質，在半導體催化劑的作用下，使呈游離狀態的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解有機氣體分子鍵，進行催化氧化反應，達到處理有機異味的目的。

光催化氧化尾氣凈化處理利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體物質分子鍵，裂解刺激性臭味氣體物質如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀態的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的。

主要特點：

1、除臭光催化處理效率高，能高效去揮發性有機污染物、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99.9%以上，完全能達標排放；

2、光催化氧化設備運行只需要設置相應的排風管道和排風動力，使氣體通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應，無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，設備風阻低,可節約大量排風動力能耗維護費用低；

3、光催化氧化設備常壓下經行，故安全，無隱患；

4、光催化氧化設備對工況適應能力強可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠；

5、光催化氧化設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。